是技術(shù)創(chuàng)新“顯微鏡”和“放大鏡”

在技術(shù)創(chuàng)新的浪潮中，許多企業(yè)手握技術(shù)創(chuàng)新卻渾然不知，錯失保護(hù)良機(jī)——高達(dá)95%的技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)在初期未被識別。

專利挖掘遠(yuǎn)非簡單的創(chuàng)意收集，而是在技術(shù)研發(fā)過程中，系統(tǒng)性地對技術(shù)成果進(jìn)行剖析、整理、拆分和篩選，從而識別出具有專利申請和保護(hù)價值的技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)與方案。

通俗講，專利挖掘就是沿著產(chǎn)品線和技術(shù)發(fā)展戰(zhàn)略，找出創(chuàng)新點(diǎn)，確定出能夠申請專利的技術(shù)方案。

一、技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)

• 技術(shù)方案差異：與現(xiàn)有技術(shù)相比的改進(jìn)點(diǎn)（如結(jié)構(gòu)優(yōu)化、工藝革新、材料替代等）

• 功能實(shí)現(xiàn)路徑：解決技術(shù)問題的獨(dú)特方法

• 領(lǐng)域融合技術(shù)：AI算法與傳統(tǒng)行業(yè)結(jié)合的新應(yīng)用

tips：未挖掘的創(chuàng)意易被抄襲，導(dǎo)致研發(fā)投入無法回收。專利挖掘通過法律確權(quán)，將技術(shù)轉(zhuǎn)化為可維權(quán)的資產(chǎn)

二、專利組合要素

• 核心專利：支撐產(chǎn)品競爭力的關(guān)鍵技術(shù)

• 外圍專利：圍繞核心技術(shù)的改進(jìn)方案、替代設(shè)計

• 防御性專利：針對競爭對手技術(shù)路線的規(guī)避設(shè)計

tips：核心專利+外圍專利形成“專利網(wǎng)”，使競品難以繞行

三、風(fēng)險與機(jī)會信號

• 侵權(quán)風(fēng)險點(diǎn)：識別競品專利覆蓋范圍，避免技術(shù)侵權(quán)

• 技術(shù)空白領(lǐng)域：通過專利地圖發(fā)現(xiàn)未布局的市場機(jī)會

tips：早期發(fā)現(xiàn)競品專利威脅，避免重復(fù)開發(fā)，無效技術(shù)方向及時止損，聚焦高價值領(lǐng)域

• 將產(chǎn)品或方案中曾被認(rèn)為必不可少的部分刻意清除，尋找更優(yōu)解。

• 將產(chǎn)品或方案分解為多個部分，然后以全新方式重組。

• 復(fù)制產(chǎn)品或方案的某個組成部分，但對其特性進(jìn)行改造。

• 給產(chǎn)品或方案中的某個部分分配額外任務(wù)，將分離的任務(wù)整合。

• 讓兩個原本不相關(guān)的屬性建立依存關(guān)系，使一個變量隨另一個變化。

  需按照產(chǎn)品特點(diǎn)，結(jié)合企業(yè)發(fā)展方向，因地制宜，詳情可咨詢凱東

1. 誤區(qū)：專利必須技術(shù)含量很高真相：專利授權(quán)取決于新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性，非技術(shù)難度

2. 誤區(qū)：簡單結(jié)構(gòu)不能申請專利真相：簡單結(jié)構(gòu)更需專利保護(hù)，防止仿制

3. 誤區(qū)：必須做出樣品才能申請真相：專利保護(hù)的是技術(shù)方案，不需實(shí)物驗(yàn)證（機(jī)械、電子領(lǐng)域圖示即可）

4. 誤區(qū)：1個產(chǎn)品=1件專利真相：新產(chǎn)品研發(fā)常攻克多項(xiàng)技術(shù)點(diǎn)，可形成多件專利（如iPhone單機(jī)數(shù)千專利）

企業(yè)應(yīng)該進(jìn)行專利挖掘嗎？

小編的回答是：很有必要！專利挖掘不僅能提煉產(chǎn)品的核心技術(shù)特征，達(dá)到更新迭代，擴(kuò)大市場占有率，更能構(gòu)建嚴(yán)密的專利組合網(wǎng)，形技術(shù)壁壘，有效抵御競爭對手的模仿與市場侵蝕。